
【概述】
半導(dǎo)體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業(yè)、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高,線寬越窄,對(duì)水質(zhì)的要求也越高。(一般要求超純水電阻率18.2MΩ.cm(25℃)、TOC<5ppb、細(xì)菌內(nèi)毒素<0.03EU/ml)這對(duì)電子工業(yè)純水、超純水處理系統(tǒng)工藝及其產(chǎn)品的易用性、自動(dòng)化程度、生產(chǎn)的連續(xù)性、可持續(xù)性等提出了更加嚴(yán)格的要求。
【國家標(biāo)準(zhǔn)】(GB/T11446.1-1997)
目前我國電子工業(yè)部把電子級(jí)水質(zhì)技術(shù)分為五個(gè)行業(yè)標(biāo)準(zhǔn),分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm,以區(qū)分不同水質(zhì)。
中國國家電子級(jí)超純水規(guī)格 GB/T11446.1-1997
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電阻率 |
硅 |
銅 |
鋅 |
鎳 |
鈉 |
鉀 |
氯 |
>1μm顆粒 |
細(xì)菌 |
硝酸根 |
磷酸根 |
硫酸根 |
TOC |
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EW-I |
≥18* |
2 |
0.2 |
0.2 |
0.1 |
0.5 |
0.5 |
1 |
0.1 |
0.01 |
1 |
1 |
1 |
20 |
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EW-II |
≥15 ** |
10 |
0 |
0 |
1 |
2 |
2 |
1 |
5 |
0.1 |
1 |
1 |
1 |
100 |




